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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统
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PlasmaPro 100 PECVD镀膜机牛津仪器 可检测Power
牛津仪器等离子体增强化学气相沉积系统PlasmaPro 100 PECVD用于测定Power Semiconductors,符合行业标准Oxford Instruments。适用Power
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镀膜机牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD 应用于纳米材料
牛津仪器镀膜机PlasmaPro 100 PECVD参考多项行业标准Oxford Instruments。完成Power Semiconductors的检测。可以用在纳米材料行业领域中的Power
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD镀膜机 应用于纳米材料
牛津仪器镀膜机PlasmaPro 100 PECVD适用于Power Semiconductors项目,参考多项行业标准Oxford Instruments。可以检测Power
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镀膜机PlasmaPro 100 PECVD牛津仪器 应用于电子/半导体
牛津仪器镀膜机PlasmaPro 100 PECVD用于测定Power Semiconductors,符合行业标准Oxford Instruments。适用Power Semiconductors
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PlasmaPro 100 PECVD镀膜机牛津仪器 应用于高分子材料
牛津仪器等离子体增强化学气相沉积系统PlasmaPro 100 PECVD用于测定Nano Material,符合行业标准Oxford Instruments。适用Nano Material项目
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牛津仪器PlasmaPro 100 ALE原子层刻蚀
我们的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90%以上,一旦设备安装完毕,可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广,包括但不限于: MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。
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牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra刻蚀和沉积设备
PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极,能够在很宽的温度范围内进行工艺,具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力,该工艺模块可提供具有高度均匀,高产量和高精度的工艺。
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镀膜机PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 可检测Power
牛津仪器镀膜机PlasmaPro 100 PECVD可以用在纳米材料行业领域,用来检测Power Semiconductors,可完成Power Semiconductors项目。符合多项行业标准
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体刻蚀和淀积工艺设备
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